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[한국공학대학교] 3차원 나노 구조체의 제조 방법

최종 수정일: 5월 27일


술명

3차원 나노 구조체의 제조 방법

기술보유기관

한국공학대학교

출원번호

10-2019-0175749(2019.12.26.)

등록번호

10-2253408(2021.05.12.)

기술완성도

TRL 4

적용분야

나노전자소자, 광학소자, 바이오소자, 에너지 소자, 의학

기술분야

재료

문의처

02-6274-5604 / khlee@isan.co.kr

첨부파일


○ 기술개요

  • 본 기술은 3차원 나노 구조체의 제조 비용 및 공정 난이도를 저감할 수 있는 3차원 나노 구조체에 관한 기술이며, 3차원 나노 구조체는 나노미터 크기를 가지기 때문에 전자 소자에 적용이 용이하다는 것을 특징으로 함

  • 전기방사법을 통해 목적 물질층 상에 직접 방사 용액을 방사하고 이를 건조하며, 상기 목적 물질층 상에 유기 나노섬유를 형성할 수 있음

     

○ 기술특징

  1. 기존 기술의 한계

  • 최근 전자소자의 집적화, 소형화 추세에 따라, 고성능의 나노소자를 구현하기 위해 나노 패터닝 기술의 연구가 활발히 진행되고 있지만, 팁에 의한 스캔 방식이기 때문에 처리속도가 느리다는 단점이 있고, 고가의 장비를 보유하여야 하기 때문에 실제로 연구 및 생산에 사용되기에는 한계가 있음


  2.  본 기술의 우위성

  • 리소그래피 공정 대신 전기방사법을 이용하여, 목적 물질층 상에 지자체인 유기 나노섬유를 용이하게 형성할 수 있을 뿐 아니라 제조 비용 또한 저감 시킬 수 있으며, 다양한 형태의 나노섬유를 용이하게 형성할 수 있음

  • 기능성 나노입자를 포함하는 방사 용액을 이용함으로써, 유기 나노섬유에 기능성을 부여할 수 있음

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